EUV光刻廠？芯片制造與光刻的工程技術與科學原理介紹 | 陳經

AIGC動態歡迎閱讀

原標題：EUV光刻廠？芯片制造與光刻的工程技術與科學原理介紹 | 陳經

關鍵字：光刻,光源,芯片,晶體管,加速器

文章來源：人工智能學家

內容字數：18711字

內容摘要：近日清華提出的SSMB-EUV光源技術忽然引發了公眾極大的興趣。一個說法是，中國可以建加速器產生EUV光源，不同頻率的光源可以給28nm、14nm、7nm、5nm等多種芯片制程使用，用“光刻廠”替代ASML一臺臺的EUV光刻機，以出人意料的創新思維打破美國。這個設想“通俗易懂”，感覺先進的國產光刻機一下有希望了。公眾對SSMB-EUV這種很難懂的同步輻射光源產生興趣，根本原因是希望突破美國技術…

原文鏈接：點此閱讀原文：EUV光刻廠？芯片制造與光刻的工程技術與科學原理介紹 | 陳經

聯系作者

文章來源：人工智能學家

作者微信：AItists

作者簡介：致力成為權威的人工智能科技媒體和前沿科技研究機構