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原標題：ASML交貨首套High-NA EUV 光刻機，單臺價值近30億元！
關鍵字：報告,光刻,英特爾,智能,納米
文章來源：人工智能學家
內容字數：1278字

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來源：EETOP
ASML 21 日宣布，已運送業界首套數值孔徑為0.55（High-NA）極紫外線（EUV）光刻機給英特爾。英特爾之前表示，首套High-NA EUV 光刻機將用于學習如何生產Intel 18A 先進制程，有望使英特爾領先對手臺積電和三星。ASML 發言人表示，已出貨第一套High-NA EUV 光刻機給英特爾。如9月宣布，機器從荷蘭ASML 總部運往英特爾俄勒岡州晶圓廠安裝。High-NA EUV 光刻機體積非常大，需13 個大貨柜才能裝完。每套High-NA EUV 光刻機成本約3 億至4 億美元（約28億元人民幣）。
英特爾表示，會使用最新設備學習生產Intel 18A 制程，2025 年量產。配備0.55 NA 透鏡的高High-NA EUV 光刻機達8 納米解析度，比0.33 NA 透鏡、13 納米解析度標準EUV 光刻機顯著提升。High-NA 將在2 納米及更先進制程發揮重要作用。
因High-NA EUV 光刻機與標準EUV 光刻機差異不小，需大量修正基礎設施，故領先對手幾季部署對英特爾是很大優勢。英特爾有充足時間調整Intel18A制程，一方面調整H

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